第九十一章 芯片与光刻

第九十一章 芯片与光刻

芯片国长久以的痛,且难以解决。

当然,解决只高端的芯片,纳米制程3-20纳米区间,20纳米以的,基本已被攻克,问题并。

唯3-20纳米区间,每缩一等级,所需的光刻机以及工艺制程的难度就高了一量级,甚至难如登的说法。

知多少国外的技术拿断言,哪怕给国内图纸,国内也制造。

因为种东西,就跟原子弹一样,设计原理很简单,但真做千难万难,根本解决了原料、设备、工艺等等问题。某种程度,芯片比原子弹还高难度,原子弹能爆炸就行,重,芯片却越越好,都往电子层级了。

但无论设备、原材料、辅料些,国内都存很短板,甚至一片空白。

如此情况,想制造一块高端芯片的确如走蜀,难如登。

正公司芯片的设计,经几十年的持续投入,如今已经以说独步了,足以世界顶尖的鹰酱一较高。

然而,制造商一卡,正公司自己设计的芯片完全没了用武之地,找到地方生产,就逼得正公司得自己搞,国内诸多厂商一同探讨方案。

就周飞宇自己看到的新闻,的就爆料说正公司搞了突破、搞了那创新。

嗯,芯片设计也被正公司玩了花样。

异构、重叠等等方案,刚开始新闻发布会宣布,被许多喷子狂喷,但随后久某果就跟了,喷子立即就表示某果才真正的技术公司、才能真正的做好的芯片。周飞宇表示:些真娘的才,没三四十年的脑血栓想么双标的说辞。

“……注意到,周总研发的款fy-02聚酰亚胺材料,性能非常优异,远超国外田丰化学、王者材料生产的产品。所以就想,以周总的聪明才智,以光敏型聚酰亚胺方向做做研发,目的重叠芯片,尽管测试样成功,但良率极低,线路精度达到。除了设备精度之外,光刻胶也很重的一原因……”

随后的会议,余龙光周飞宇聊起了正公司的一些情况,聊起了光刻胶的事情。

正公司内部的机密,余龙光肯定能透露的,说的都一些能说的,或者对外界还未公布的一些细节。

,会议室内除了正公司的周飞宇,其它都被清场了。

按余龙光的说法,为了保密,请周飞宇理解一。

“光敏型的聚酰亚胺材料?”

周飞宇心一动,脑海里立即浮现关“级薄膜技术”针对超薄、特殊性能的薄膜的一些相关知识。

其,的确提到用于光刻胶的一些光敏型聚酰亚胺材料。

光刻胶,顾名思义,用于光刻的一种胶。

所谓光刻,字面意思就用光雕刻。

当然,自然界的光,以及各种极紫外线,无法直接像一把刀一样雕刻东西的,只那种具超高能量的激光之类,才能用于直接雕刻。

芯片领域的光刻,利用某些具对光线非常敏感特性的胶,均匀涂抹晶圆,然后再胶的表面贴付一层薄膜,层薄膜被设计成需的电路图案。光线从电路图案穿,照射到胶的表面,胶因为对光线敏感于发生反应,显露电路图案相同或相反的电路图案,那些没被光线照射到的地方,自然还被胶覆盖着。

然后,将晶圆浸入特制的溶液当。

如此一,被胶覆盖着的地方,晶圆被保护了起,没变化。而那些没胶的地方,特制溶液就将晶圆腐蚀了。

腐蚀的痕迹,自然就电路图案相同或者相反。

晶圆从特殊溶液取,用纯净水一冲,面就留了所需的电路图案。

所以,与其说光刻,如说蚀刻,腐蚀雕刻,只种“腐蚀雕刻”比一般所说的腐蚀雕刻精度高了n等级,同日而语,所以起了比较高的名字“光刻”。

致原理如此,但知易行难。

一的芯片,集成的电路宛若一型的世界,里面的精度以纳米计算。

只辅助生产用的光刻胶,它所限制的厚度也都以纳米计算。

譬如20纳米制程的芯片制造,需的光刻胶厚度就能超100纳米,更为先进的3-10纳米制程芯片,它所需的光刻胶厚度就想而知了。

周飞宇暗暗思考了一会,知以飞扬新材料目的设备以及制程能力说,还达到种技术,还需一段间的发展扩充。

“方便透露,正公司目哪家公司联合研发一块吗?”

周飞宇嘴却没说什么,反而问了起。

“目正公司正金陵的华科新材公司合作,望月完成arf线光刻胶的测试工作,月进入试产阶段。”

余龙光会没隐瞒了,直接说。

当然,说完之后也忘叮嘱周飞宇注意保密工作。

“了解了。”

周飞宇点了点头,也知正公司千方百计想重回手机芯片行业,以至于见识到的材料研发能力后,余龙光都特意跑了聊。

,余龙光所说的月完成arf线光刻胶测试,月进入试产,点信的,哪么快么顺利的测试?

余龙光见反应很,心些失望,随后便叹了口气后说:“光刻胶领域技术难度,市场容量却,验证周期长,的确很多企业或者团体愿意往方面投入。周总若没方面的想法,也能理解。”

的确,光刻胶领域又难又没什么途,而且难熬。

玩家就那么几,哪怕生产了光刻胶,想验证款胶好还好,都没法验证,因为芯片制造商才那么几家,生产光刻机的制造商也那么几家,它既会轻易的更换供应商,也会随便就给验证一款新材料。

行业的垄断顽固,技术的高难度,都阻挡了投入的兴趣。

“余总您激将法……”

听着的话,周飞宇却轻笑一声。

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我的星河科技王伟

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